12寸立式LPCVD炉管设备
功能
技术参数
Bhadra™立式LPCVD BLD300
功能
主要应用于12英寸低压化学气相沉积，生长出的薄膜具有高纯度、高均匀性和较好的台阶覆盖能力
或电话联系：
86-18924169069 / 020-31569374
技术参数
晶圆尺寸：12英寸
工艺类型：应用于Poly、Nitride、TEOS工艺
Poly:作为栅极和虚设栅极（Dummy Gate）
Nitride:用做硅片最终的钝化保护层，掩膜工艺和浅槽隔离工艺
TEOS：应用于绝缘膜，浅槽隔离的填充物
适用材料：硅
应用领域：功率半导体、集成电路、科研
