LPCVD的应用

LPCVD （ Low Pressure Chemical Vapor Deposition ），低压化学气相沉积。在芯片制造中，低压化学气相沉积（LPCVD）广泛应用于创建各种薄膜，这些薄膜有不同的用途。LPCVD可以用来沉积氧化硅和氮化硅；也可以用来制造掺杂薄膜，以改变硅的导电性。

氧化工艺的应用

氧化反应是半导体芯片制程中基本工艺之一，是一种添加工艺，将氧气加入到硅晶圆后在晶圆表面形成二氧化硅薄膜。薄膜是在高温下形成，故也称之为“热氧化”。