Bhadra™立式高温氧化炉HBO200
功能
主要应用于8英寸中高温氧化和退火工艺,设备可以制作出工艺需要的二氧化硅膜,对产品起保护、钝化、缓冲介质等作用,也可以用于消除晶格缺陷作用。
或电话联系:
86-18924169069 / 020-31569374
技术参数
晶圆尺寸:8英寸
工艺类型:干氧、湿氧、二氯乙烯氧和高温退火
适用材料:硅
应用领域:功率半导体、集成电路、衬底材料、科研